 |
|
 |
|
 |
|
 |
|
 |
|
 |
|
 |
|
 |
|
|
|
Установка реактивно-ионного травленияс источником высокоплотной плазмы(ICP RIE)"Плазмаком 203М"
|
Назначение установки.
Высокоскоросное анизотропное травление кремния, кварца, полиимида, тонких металлических слоёв и других материалов. Травление наноструктур, субмикронных размеров элементов.
Фотографии |
8_24__002r.jpg |
9_19_1__003.jpg |
DSC01661.JPG |
DSCN1974.JPG |
N3__001.JPG |
n8_10__008.jpg |
t_ka__001.jpg |
tab_ka_001r.jpg |
p6-803.jpg |
XT-4D05.jpg |
XT-4D04.jpg |
p6-403.jpg |
Продолжение этой страницы (установка
для глубокого анизотропного травления ).
Ваши заказы, предложения и вопросы направляйте по приведённым ниже адресам электронной почты.
или щёлкните по этой ссылке, чтобы отправить Ваше сообщение через web интерфейс.
устройство согласования генератора с нагрузкой устройство согласования ВЧ-генератор согласуещее устройство согласование генератора с нагрузкой индукционный нагрев устройство согласования генератора с нагрузкой устройство согласования вч генератор согласуещее устройство согласование генератора с нагрузкой индукционный нагрев
